光學(xué)實(shí)驗(yàn)平臺(tái)應(yīng)用領(lǐng)域：適合于現(xiàn)代光學(xué)、物理力學(xué)、激光電子、光通訊試驗(yàn)及儀器搭載等領(lǐng)域應(yīng)用。

　　光學(xué)平臺(tái)使用時(shí)注意事項(xiàng)：

　　1、 請(qǐng)勿用酸性液體清洗本產(chǎn)品,以免破壞產(chǎn)品表面質(zhì)量。

　　2、 請(qǐng)勿將本產(chǎn)品放置在高溫、潮濕及高強(qiáng)度振源處。

　　3、 請(qǐng)勿用水沖洗本產(chǎn)品。

　　4、 本產(chǎn)品長時(shí)間處于一種狀態(tài)下,請(qǐng)用水平儀調(diào)整臺(tái)面水平。

　　5、 工作臺(tái)面上擱置的任何設(shè)備或工具,都必須小心輕放,盡量不要相對(duì)磨擦,以避免損傷工作臺(tái)面,降低使用精度。

　　6、 工作臺(tái)面安裝孔,是用于固定設(shè)備的M6螺孔,使用時(shí)避免用力過大,影響工作臺(tái)精度。

　　光學(xué)實(shí)驗(yàn)平臺(tái)外形尺寸

　　1200×800×120mm（提供支撐桌）

　　1500×1000×140mm（提供支撐桌）

　　1800×1000×140mm（提供支撐桌）